查特杜瓦瓶杜瓦罐的5大類主要應(yīng)用

查特杜瓦瓶杜瓦罐的5大類主要應(yīng)用說明：

1 激光切割，查特杜瓦瓶配套激光切割機(jī)，為激光切割機(jī)供應(yīng)的切割碳鋼用的氧氣，一般使用杜瓦瓶?jī)?chǔ)存大量的液氧，純度高于99.5%，還有切割不銹鋼使用的高純氮?dú)猓枰褂貌樘囟磐咂績(jī)?chǔ)存大量的液氮，再通過汽化器汽化使用。一般出口壓力要求1-2mpa的壓力。激光切割機(jī)是大量消耗液氮液氧的設(shè)備，需要根據(jù)氣體消耗量選用適合的杜瓦瓶。

2 液質(zhì)聯(lián)用儀，查特杜瓦瓶配套液質(zhì)聯(lián)用儀，一般選用180MP 或者200MP 型，儀器使用霧化氣和干燥氣，壓力一般0.8mpa左右。根據(jù)儀器使用頻率和消耗量選用不同型號(hào)的查特杜瓦瓶，另外使用液氬作為碰撞氣的也有選用杜瓦瓶充裝液體使用的。

3 真空鍍膜機(jī)，查特杜瓦瓶為真空鍍膜機(jī)提供所需的氮?dú)鉀_入，排除內(nèi)部氧氣。讓真空鍍膜機(jī)內(nèi)部氮?dú)鈮毫Ρ３衷?/span>0.5mpa左右。需要持續(xù)吹入0.5mpa左右的氮?dú)狻Ｕ婵斟兡C(jī)氮?dú)?/span>

為真空鍍膜機(jī)大量供應(yīng)氮?dú)?，并保持穩(wěn)定壓力，應(yīng)使用常規(guī)的液態(tài)杜瓦瓶供應(yīng)，杜瓦瓶?jī)?nèi)部裝有液態(tài)氮?dú)猓渲闷到y(tǒng)及減壓裝置，調(diào)壓出來氣體符合真空鍍膜機(jī)的使用，符合大量應(yīng)用氮?dú)獠⒎€(wěn)定壓力和流量的氮?dú)鈿怏w應(yīng)用。一般杜瓦瓶選用180MP規(guī)格或者200MP規(guī)格，出口安裝氮?dú)鉁p壓閥，使用氣體量大的客戶可選用MC450MP。

4 核磁共振儀 低壓罐，核磁共振儀是需要使用230LP型低壓補(bǔ)液罐來作為低壓補(bǔ)液，補(bǔ)充低壓液氮使用的，壓力可達(dá)到22psi，給核磁共振儀補(bǔ)充液氮，配置有沖液軟管，一罐液體可夠核磁共振儀沖液幾次使用的。

5 程序降溫儀 程序降溫儀的降溫需要查特杜瓦瓶的低壓杜瓦瓶230LP型補(bǔ)液型杜瓦瓶配套使用，為其做補(bǔ)液罐體，保證程序降溫儀內(nèi)部的超低溫運(yùn)行，壓力不超過22psi。低壓補(bǔ)液是低消耗和平穩(wěn)供給的結(jié)合產(chǎn)品。230LP型查特杜瓦瓶是低壓補(bǔ)液的典型應(yīng)用產(chǎn)品

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